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安徽水廠消毒設(shè)備-次氯酸鈉發(fā)生器設(shè)備

描述:安徽水廠消毒設(shè)備-次氯酸鈉發(fā)生器設(shè)備二氧化氯制備原料濃鹽酸和氯酸鈉或亞氯酸鈉均為危險品,貯存和運輸會受到越來越嚴格的限制。現(xiàn)場制備次氯酸鈉溶液方便可以避免日益嚴格的限制。

  • 產(chǎn)品型號:HCCL
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2021-04-13
  • 訪問量:365
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標題:安徽水廠消毒設(shè)備-次氯酸鈉發(fā)生器設(shè)備

產(chǎn)品概述

安徽水廠消毒設(shè)備-次氯酸鈉發(fā)生器設(shè)備 1) 原料易得,原料為鹽、水、電,每生成 1kg 有效氯,需精制鹽:3.5Kg , 軟化水:56.8 L ,電:4.5 kWh-AC 無須大量運輸危險品,10%商品次氯酸鈉溶液、二氧化氯制備原料濃鹽酸和氯酸鈉或亞氯酸鈉均為危險品,貯存和運輸會受到越來越嚴格的限制?,F(xiàn)場制備次氯酸鈉溶液方便可以避免日益嚴格的限制。
  2) 沒有潛在的漏氯風險,對人及環(huán)境沒有任何危害和污染。
  3) 消毒溶液為現(xiàn)產(chǎn)現(xiàn)用,即使短時間儲存幾乎不衰減,而 10%商品次氯酸鈉溶液衰減很快。
  4) 中的氯堿業(yè)是非常發(fā)達的,中的鈦的質(zhì)量是上好的,由產(chǎn)的鈦作為基料,表層涂履銥釕等貴金屬,這種電特別耐電解的氧化,比其 它電可以提供更好的轉(zhuǎn)換效率。
  5) 設(shè)備自動化程度高,操作便捷,可配備 PLC 控制系統(tǒng),實現(xiàn)無需人值守。

安徽水廠消毒設(shè)備-次氯酸鈉發(fā)生器設(shè)備

和創(chuàng)智云次氯酸鈉發(fā)生器系統(tǒng)組成部件介紹:

  1、稀鹽水預制:
  稀鹽水箱:精制鹽投入到溶鹽罐后,通過人為攪拌對鹽顆粒進行初次溶解達到免攪拌溶解,形成比例鹽水,(或者增加一臺鹽水循環(huán)泵)。
  2、次氯酸鈉發(fā)生器主機
  次氯酸鈉發(fā)生器主機是本成套系統(tǒng)的組成部分,它是使用電解稀鹽水制取成次氯酸鈉溶液的關(guān)鍵部件;包含部件有:電解槽、電解電源、流量及溫控開關(guān)、操作面板、電解電壓/電流顯示等;
  3、電解槽總成由電解槽體及電解電組成;
  電解槽體:管式電解槽,使用高耐腐蝕的UPVC管道制作而成,內(nèi)部電板陰陽之間采用PVDF材料進行隔離,具有耐腐蝕、穩(wěn)定性高、使用壽命長的特點;
  電板:板式電,電的陰陽基材全部采用純鈦材料制成,在電解過程中,陰是得到保護的,而陽是受損失的,因此陽表面必須做涂層保護,發(fā)生器電陽表面采用經(jīng)納米技術(shù)處理,顆粒精細度達到20納米的釕、銥氧化物進行涂層,分25次以上涂層,涂層厚度20微米,可電、穩(wěn)定的使用壽命,同時電板可滿足導條件,方便快捷的處理電板上的結(jié)垢。
  4、使用壽命:次氯酸鈉發(fā)生器的電免費使用1年,正常使用壽命可達5 -8年。
  5、超聲波流量計:主管道上安裝超聲波流量計,監(jiān)測管網(wǎng)的瞬時流量和總流量,并和加藥設(shè)備連鎖,加藥根據(jù)流量大小投加;
  6、溫度控制開關(guān):電解槽電解液出液均帶有PT100溫度傳感器,機器開始運行時,控制中心開始檢測溫度傳感器,當溫度超出設(shè)定值時,機器馬上停止工作,發(fā)出超溫報警信號,同時機器處于待機狀態(tài),確保機器的安全可靠運行;


  7、高性能長壽命核心電解電:電解過程中,陰是得到保護的,而陽是受損失的,因此陽表面必須做涂層保護,發(fā)生器電陽表面采用經(jīng)納米技術(shù)處理,采用精細度達到20納米的釕、銥氧化物進行涂層,可電有很長的使用壽命
  8、電解智能電源:次氯酸鈉發(fā)生器采用高頻型恒流電子開關(guān)電源做為電解電源,由于采用高頻整流技術(shù),因此交直流轉(zhuǎn)換效率達到95%以上,發(fā)熱量很低,運行穩(wěn)定、體積小,比普通的硅整流器的電轉(zhuǎn)換效率提高20%以上(《次氯酸鈉發(fā)生器》GB17126標要求電流效率≥72%)。
  9、存儲罐:是發(fā)生器所制取的全部次氯酸鈉溶液的存儲容器,可帶有液位控制,當液位達到高位時,處于滿槽狀態(tài),發(fā)生器暫停運行,并點亮滿槽燈,隨著溶液的逐漸被使用,當液位下降補液位時,發(fā)生器重新啟動運行,滿槽燈滅,當液位下降低位控制點以下時,表示存儲槽的次氯酸鈉溶液已經(jīng)很少,系統(tǒng)會暫停自動投氯,直液位上升低位控制點以上。

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